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電鍍硬烙技術在不斷的追求中進步


電鍍硬烙廠家不能保證所有的產品沒有瑕疵,也不能保證一個產品沒有一點瑕疵。主要是我們的加工工藝和技術還沒有達到這樣的程度,我們知道,一些產品總是有這樣那樣的額問題,較好的產品也只是相對來說的。在不斷的進步中我們總是淘汰舊的產品需要更好的產品替代。我們的加工技術也是這樣,只要是能促進和改革產品質量的環(huán)保技術很快就會運用到我們的生產中。電鍍硬烙對于產品的加工也是一樣的,我們在改進技術的同時,也在追求產品品質的上升。只有在進步中我們才能獲得更好的產品。以下是我們的電鍍硬烙廠家常用的技術和改進工藝介紹。


電鍍硬鉻的反刻時間應根據活塞環(huán)材質和結晶組織緊密程度來決定。緊密結構或鋼質則時間長,碳元素為球狀,則時間長,一般灰鑄鐵環(huán)為5—15S,球墨鑄鐵環(huán)為15—45s。鋼帶環(huán)為50—1008。反刻電流密度2O4oA/dm^2。沖擊鍍時間90—120s,沖擊電流密度為正常電鍍的1.5—2.0倍,這取決于整流器的額定電流。電鍍電壓一般小于lOV。在掛具良好狀態(tài)下,若電壓上升,則表示鍍液中三價鉻太多。


控制鍍液溫度是保證電鍍硬鉻的鍍層硬度和色澤穩(wěn)定的重要因素。由于活塞環(huán)電鍍電流密度60A/dm2以上,產生的熱量多,槽液溫度上升很快,須有良好的冷卻設置。很多廠家采用體外循環(huán)冷卻,效果更好。電鍍硬鉻酸與硫酸之比須嚴格控制,把硫酸控制在下限以控制三價鉻的增加。過多的三價鉻本身是鍍鉻中有害的金屬雜質??刂屏蛩岬暮亢艽蟪潭壬弦种迫齼r鉻的增加,延長鍍液壽命。

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